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J-GLOBAL ID：201503010223636151

グラフェン構造体

Inventor： 灰野 岳晴 ,  関谷 亮
Applicant, Patent owner： 国立大学法人広島大学
Agent (1)： 特許業務法人前田特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014235842
Publication number (International publication number)：2015134702
Application date： Nov. 20, 2014
Publication date： Jul. 27, 2015
Summary：

【課題】可視領域(380〜700nm)をカバーする発光スペクトルを有し、白色発光材料として有用なグラフェン化合物を提供する。【解決手段】グラフェン構造体は、単層のグラフェンシートからなり、グラフェンシートの端部にアームチェア型の端面部を有するグラフェン量子ドットを有し、端面部の一部が、3,5-ビス(ベンジルオキシ)ベンジル、3,5-ビス(3,5-ビス(ベンジルオキシ)ベンジルオキシ)ベンジル、3,5-ビス(3,5-ビス(3,5-ビス(ベンジルオキシ)ベンジルオキシ)ベンジルオキシ)ベンジルからなる群より選ばれる1種のデンドリマーを有する嵩高い基、3,4,5-トリ(ヘキサデシルオキシ)ベンジル、及びポリへドラルオリゴメリックシルセスキオキサンからなる群より選ばれる1種により被覆されている。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

単層のグラフェンシートからなり、該グラフェンシートの端部にアームチェア型の端面部を有するグラフェン量子ドットを有し、 前記端面部の一部が、3,5-ビス(ベンジルオキシ)ベンジル、3,5-ビス(3,5-ビス(ベンジルオキシ)ベンジルオキシ)ベンジル、3,5-ビス(3,5-ビス(3,5-ビス(ベンジルオキシ)ベンジルオキシ)ベンジルオキシ)ベンジルからなる群より選ばれる1種のデンドリマーを有する嵩高い基、3,4,5-トリ(ヘキサデシルオキシ)ベンジル、及びポリへドラルオリゴメリックシルセスキオキサンからなる群より選ばれる1種により被覆されていることを特徴とするグラフェン構造体。

IPC (3)：

C01B 31/02 ,  C09K 11/65 ,  C09K 11/08

FI (3)：

C01B31/02 101Z ,  C09K11/65 ,  C09K11/08 G

F-Term (23)：

4G146AA01 ,  4G146AB01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC16A ,  4G146AC16B ,  4G146AC30A ,  4G146AC30B ,  4G146AD15 ,  4G146AD17 ,  4G146AD28 ,  4G146BA02 ,  4G146CB10 ,  4G146CB11 ,  4G146CB12 ,  4G146CB14 ,  4G146CB19 ,  4G146CB21 ,  4G146CB23 ,  4G146CB35 ,  4G146CB37 ,  4H001CA02 ,  4H001CC13 ,  4H001XA06