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J-GLOBAL ID:201503012987888948
シリカ粒子を含有する高分子多孔体およびその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
特許業務法人森本国際特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014079803
Publication number (International publication number):2015199846
Application date: Apr. 09, 2014
Publication date: Nov. 12, 2015
Summary:
【課題】平均粒径が小さいシリカ粒子を含有し、かつマクロ孔とメソ孔とを有する高分子多孔体を提供する。【解決手段】平均粒径が200nm以下のシリカ粒子が分散してなり、平均孔径が0.50μmを超え200μm以下のマクロ孔と平均孔径が0.1〜500nmのメソ孔とを有することを特徴とするシリカ粒子を含有する高分子多孔体。【選択図】なし
Claim (excerpt):
平均粒径が200nm以下のシリカ粒子が分散してなり、平均孔径が0.50μmを超え200μm以下のマクロ孔と平均孔径が0.1〜500nmのメソ孔とを有することを特徴とするシリカ粒子を含有する高分子多孔体。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (17):
4F074AA71
, 4F074AA74
, 4F074AC32
, 4F074AG01
, 4F074CB52
, 4F074DA02
, 4F074DA03
, 4F074DA07
, 4F074DA08
, 4F074DA32
, 4F074DA33
, 4F074DA35
, 4F074DA40
, 4F074DA47
, 4F074DA49
, 4F074DA54
, 4F074DA57
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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無機粒子を含有する多孔質膜及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2011-029053
Applicant:株式会社ダイセル
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複合中空糸膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2011-078537
Applicant:イビデン株式会社, 国立大学法人京都工芸繊維大学
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多孔質球状シリカ粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-191903
Applicant:昭和電工株式会社
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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柔軟で耐熱性に優れたポリイミド=シリカナノコンポジット多孔体
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