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J-GLOBAL ID:201503013956283776

ラジカル機能液およびその製造方法並びにラジカル機能液の使用方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 中尾 俊輔 ,  伊藤 高英 ,  畑中 芳実 ,  大倉 奈緒子 ,  玉利 房枝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2013235639
Publication number (International publication number):2015093864
Application date: Nov. 14, 2013
Publication date: May. 18, 2015
Summary:
【課題】プラズマガス中のラジカルを溶媒に溶解させて、大気中のラジカルの活性の寿命より長く、かつ、そのラジカルの活性が所望の時間で失われるようにコントロールしたラジカル機能液の提供およびこのラジカル機能液の製造方法、並びに、このラジカル機能液の使用方法を提供することを目的とする。【解決手段】所定時間で機能液としての機能を失うようにプラズマガスに起因するラジカルを溶媒に溶解した溶液であることを特徴とするラジカル機能液およびこの製造方法、並びにこのラジカル機能液の使用方法。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
所定時間で機能液としての機能を失うようにプラズマガスに起因するラジカルを溶媒に溶解した溶液であることを特徴とするラジカル機能液。
IPC (5):
A01N 59/00 ,  H05H 1/24 ,  A61L 9/14 ,  A01P 3/00 ,  A01N 25/02
FI (5):
A01N59/00 Z ,  H05H1/24 ,  A61L9/14 ,  A01P3/00 ,  A01N25/02
F-Term (13):
4C080AA07 ,  4C080BB05 ,  4C080HH03 ,  4C080JJ01 ,  4C080KK06 ,  4C080LL02 ,  4C080MM01 ,  4C080QQ03 ,  4H011AA02 ,  4H011BB18 ,  4H011DA13 ,  4H011DD07 ,  4H011DG05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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