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J-GLOBAL ID:201503022331643196

合金材料、回路基板、電子デバイス及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 阿部 美次郎 ,  江頭 達哉
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2011033496
Publication number (International publication number):2012172178
Patent number:5667467
Application date: Feb. 18, 2011
Publication date: Sep. 10, 2012
Claim (excerpt):
【請求項1】 微細空間を充填する合金材料であって、 92〜98質量%の範囲のBiと、0.5〜7.5質量%の範囲のSnと、0.5〜4質量%の範囲のAgと、Gaとからなる四元系であり、 前記Gaの添加は、前記Bi、Sn及びAgの総量を100質量部として、その0.01〜0.8質量%の範囲にある、 合金材料。
IPC (6):
C22C 12/00 ( 200 6.01) ,  B23K 35/26 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3205 ( 200 6.01) ,  H01L 21/768 ( 200 6.01) ,  H01L 23/522 ( 200 6.01) ,  H01L 23/532 ( 200 6.01)
FI (4):
C22C 12/00 ,  B23K 35/26 310 C ,  H01L 21/88 J ,  H01L 21/88 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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