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J-GLOBAL ID：201503040285400486

銅製錬スラグを原料とする高純度ケイ酸質材料及びその製造方法

Inventor：
羽切 正英

About 羽切 正英

, 
内田 修司

About 内田 修司

, 
國谷 亮介

About 國谷 亮介


Applicant, Patent owner：
独立行政法人国立高等専門学校機構

About 独立行政法人国立高等専門学校機構


Agent (1)： 特許業務法人創成国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014172737
Publication number (International publication number)：2015098431
Application date： Aug. 27, 2014
Publication date： May. 28, 2015
Summary：
【課題】銅製錬工程で生じるスラグを再利用する方法を提供する。【解決手段】銅製錬スラグを塩酸又は硝酸を含む水溶液で処理しヒドロゲルを生成させ、乾燥することにより、高純度のケイ酸を含む吸着材を製造する。さらに該吸着材を焼成することにより導電性を備えた吸着材や、酸浸出することにより表面積の高い吸着剤となる。【選択図】図5
Claim (excerpt)：
銅製錬スラグから製造する高純度にケイ酸を含むケイ酸質材料の製造方法であって、 銅スラグを塩酸又は硝酸を含む水溶液で処理することによって、ヒドロゲルを生成し、 前記ヒドロゲルを乾燥することを特徴とするケイ酸質材料の製造方法。
IPC (7)：
C01B 33/12 ,  B09B 3/00 ,  C22B 7/04 ,  B01J 20/10 ,  B01D 21/01 ,  B01J 20/30 ,  C04B 5/00
FI (9)：
C01B33/12 A ,  B09B3/00 304D ,  C22B7/04 B ,  C22B7/04 A ,  B09B3/00 303D ,  B01J20/10 A ,  B01D21/01 102 ,  B01J20/30 ,  C04B5/00 C
F-Term (41)：
4D004AA43 ,  4D004AC05 ,  4D004BA10 ,  4D004CA36 ,  4D004CB42 ,  4D004CC12 ,  4D015BA04 ,  4D015BB05 ,  4D015DA13 ,  4D015DC02 ,  4G066AA30B ,  4G066CA45 ,  4G066DA07 ,  4G066DA20 ,  4G066FA40 ,  4G072AA35 ,  4G072BB05 ,  4G072CC10 ,  4G072GG03 ,  4G072HH38 ,  4G072JJ14 ,  4G072JJ16 ,  4G072JJ22 ,  4G072LL06 ,  4G072LL07 ,  4G072LL09 ,  4G072MM08 ,  4G072PP05 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072SS01 ,  4G072SS09 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072UU11 ,  4G072UU12 ,  4G112JD03 ,  4G112JE02 ,  4K001BA12 ,  4K001CA07
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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