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J-GLOBAL ID:201503043307740935

排ガス処理方法および排ガス処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 野河 信太郎 ,  甲斐 伸二 ,  金子 裕輔 ,  稲本 潔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2013145624
Publication number (International publication number):2015016434
Application date: Jul. 11, 2013
Publication date: Jan. 29, 2015
Summary:
【課題】本発明は、NOxを含む150°C以上の排ガスをオゾンガス処理することができ処理設備を簡素化することができる排ガス処理方法を提供する。【解決手段】本発明の排ガス処理方法は、NOxを含む150°C以上の排ガス中に水または水溶液である第1液体とオゾンとを供給し、オゾンガスを含む排ガス中に第1液体の水滴が浮遊する第1ミストを発生させる工程を含むことを特徴とする。また、本発明の排ガス処理方法は、第1ミスト中を通過した後の排ガス中に、還元剤水溶液である第2液体を噴霧し第2ミストを発生させる工程をさらに含んでもよい。【選択図】図1
Claim (excerpt):
NOxを含む150°C以上の排ガス中に水または水溶液である第1液体とオゾンとを供給し、オゾンガスを含む排ガス中に第1液体の水滴が浮遊する第1ミストを発生させる工程を含む排ガス処理方法。
IPC (4):
B01D 53/56 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/18
FI (3):
B01D53/34 130C ,  B01D53/34 125C ,  B01D53/18 E
F-Term (30):
4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA13 ,  4D002BA14 ,  4D002CA01 ,  4D002CA13 ,  4D002DA02 ,  4D002DA03 ,  4D002DA12 ,  4D002DA35 ,  4D002DA51 ,  4D002EA01 ,  4D002EA02 ,  4D002EA05 ,  4D002GA01 ,  4D002GB03 ,  4D020AA05 ,  4D020AA06 ,  4D020BA01 ,  4D020BA08 ,  4D020BA23 ,  4D020BB03 ,  4D020CB25 ,  4D020CD02 ,  4D020DA03 ,  4D020DB02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
  • 排ガス処理方法および装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-286354   Applicant:三菱電機株式会社
  • 排気ガスの処理方法および処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2009-117734   Applicant:公立大学法人大阪府立大学
  • 特開昭55-084522
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