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J-GLOBAL ID:201503052897449768
脱臭方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2013216215
Publication number (International publication number):2015077268
Application date: Oct. 17, 2013
Publication date: Apr. 23, 2015
Summary:
【課題】脱臭処理後の戻り臭を抑制し得る脱臭方法を提供する。【解決手段】多孔質からなる悪臭発生部に、酸化剤が混入された洗浄水を用いて脱臭を行う洗浄水脱臭工程(S1)と、光触媒スラリーを上記悪臭発生部に滴下する光触媒スラリー滴下工程(S2)と、光触媒スラリーの滴下部に光照射処理を行う光照射工程(S3)とをこの順に含む。【選択図】図1
Claim (excerpt):
多孔質からなる悪臭発生部に、酸化剤が混入された洗浄水を用いて脱臭を行う洗浄水脱臭工程と、
光触媒スラリーを上記悪臭発生部に滴下する光触媒スラリー滴下工程と、
上記光触媒スラリーの滴下部に光照射処理を行う光照射工程とをこの順に含むことを特徴とする脱臭方法。
IPC (5):
A61L 9/00
, A61L 2/08
, A61L 2/18
, A61L 9/18
, A61L 2/02
FI (5):
A61L9/00 C
, A61L2/08
, A61L2/18
, A61L9/18
, A61L2/02 Z
F-Term (26):
2D037EB00
, 4C058AA23
, 4C058BB02
, 4C058BB06
, 4C058BB07
, 4C058CC04
, 4C058CC08
, 4C058JJ06
, 4C058JJ22
, 4C058KK01
, 4C058KK50
, 4C080AA07
, 4C080AA09
, 4C080BB04
, 4C080BB06
, 4C080CC08
, 4C080CC12
, 4C080CC13
, 4C080HH03
, 4C080KK06
, 4C080LL03
, 4C080MM01
, 4C080MM02
, 4C080MM08
, 4C080MM09
, 4C080NN01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
-
生ゴミガス脱臭方法とその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-344927
Applicant:三菱電機ビルテクノサービス株式会社
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