Pat

J-GLOBAL ID：201503060756778949

エレクトロクロミック材料

Inventor： 田中 章博 ,  宮本 操 ,  長村 利彦 ,  金 善南 ,  金 秀蘭
Applicant, Patent owner： 国立大学法人九州大学 ,  日産化学工業株式会社
Agent (4)： 萼 経夫 ,  宮崎 嘉夫 ,  加藤 勉 ,  伴 知篤
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2011539402
Patent number：5689071
Application date： Nov. 05, 2010
Claim (excerpt)：

【請求項1】同一分子内にエレクトロクロミック特性を発現する部分と2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAを、該モノマーAに対して20乃至300モル%量の重合開始剤Bの存在下で重合させることにより得られる高分岐ポリマーからなる、エレクトロクロミック材料。

IPC (3)：

C09K 9/02 ( 200 6.01) ,  C08F 12/34 ( 200 6.01) ,  G02F 1/15 ( 200 6.01)

FI (3)：

C09K 9/02 A ,  C08F 12/34 ,  G02F 1/15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

• エレクトロクロミックミラー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-205428   Applicant：日本石油株式会社
• エレクトロクロミック素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-364869   Applicant：日石三菱株式会社
• エレクトロクロミック素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-364870   Applicant：日石三菱株式会社
• エレクトロクロミック素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-300764   Applicant：日石三菱株式会社
• デンドリマー及びこれを用いた電子デバイス素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-189098   Applicant：シャープ株式会社, 東洋合成工業株式会社
• ハイパーブランチポリマーの合成方法およびレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-338941   Applicant：ライオン株式会社
• 混合原子価錯体修飾ハイパーブランチポリマー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-050062   Applicant：国立大学法人九州大学, 日産化学工業株式会社