イオン性高分岐ポリマー及び炭素ナノ材料分散剤

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (5)：萼経夫 , 宮崎嘉夫 , 加藤勉 , 小山京子 , 伴知篤
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010161021
Publication number (International publication number)：2012021100
Patent number：5676170
Application date： Jul. 15, 2010
Publication date： Feb. 02, 2012
Claim (excerpt)：

【請求項1】分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAと、分子内にカルボキシル基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーBとを、該モノマーA及び該モノマーBの合計モル数に対して、5モル%以上200モル%以下の重合開始剤Cの存在下で重合させる段階と、前記重合段階の前、前記重合段階の間、又は前記重合段階に続いて、前記カルボキシル基に窒素原子含有塩基性化合物を反応させる段階とにより得られ、前記モノマーAがジビニルベンゼンであり、前記モノマーBが(メタ)アクリル酸であり、前記窒素原子含有塩基性化合物が、下記式[1]で表されるカチオンを有する化合物である、イオン性高分岐ポリマー。 (式中、R1、R2及びR3はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1乃至6のアルキル基、炭素原子数1乃至6のヒドロキシアルキル基又はビニル基を表す。)

IPC (8)：

C08F 8/30 ( 200 6.01) , C08L 101/08 ( 200 6.01) , C01B 31/02 ( 200 6.01) , C08K 5/16 ( 200 6.01) , C08K 5/19 ( 200 6.01) , C08K 5/34 ( 200 6.01) , C08F 212/36 ( 200 6.01) , C08F 220/00 ( 200 6.01)

FI (8)：

C08F 8/30 , C08L 101/08 , C01B 31/02 101 F , C08K 5/16 , C08K 5/19 , C08K 5/34 , C08F 212/36 , C08F 220/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

不飽和カルボン酸系重合体、その架橋物及びそれからなる堆肥化助剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-121242 Applicant：出光石油化学株式会社
極めて低い残留モノマー含量を有する合成ポリマーの製造法、それにより得られた生成物および該生成物の使用
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