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J-GLOBAL ID：201503070917305251

イオン照射装置

Inventor： 角谷 晶子 ,  佐古 貴行 ,  須山 章子 ,  安岡 孝倫 ,  保科 好一
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (2)： 藤原 康高 ,  寺脇 秀▲徳▼
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013153112
Publication number (International publication number)：2015021183
Application date： Jul. 23, 2013
Publication date： Feb. 02, 2015
Summary：

【課題】チャージアップを緩和させることで、対象物へのイオンの注入量の低下を抑制するイオン照射装置を提供する。【解決手段】実施形態のイオン照射装置10は、対象物にイオンを照射するイオン照射装置10であって、真空に保たれ内部でプラズマが発生する真空容器11と、真空容器11に印加される電圧を出力する電源12と、真空容器11に接続し内部に対象物が設置される基板設置容器14と、プラズマから対象物に向けてイオンを引き出すイオン引き出し電極と、基板設置容器14内部で対象物を接地電位に保持する基板ホルダ23と、制御部21とを有し、制御部21は、正電圧が印加された真空容器11内でプラズマが発生しているイオン照射ステップS1の後に、接地電圧の真空容器11内または負の電圧が印加された真空容器11内でプラズマが発生しているチャージアップ緩和ステップS2が行なわれるように電源12を制御する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

対象物にイオンを照射するイオン照射装置であって、 真空に保たれ内部でプラズマが発生する真空容器と、 前記真空容器に印加される電圧を出力する電源と、 前記真空容器に接続し内部に前記対象物が設置される基板設置容器と、 前記プラズマから前記対象物に向けてイオンを引き出すイオン引き出し電極と、 前記基板設置容器内部で前記対象物を接地電位に保持する基板ホルダと、 制御部とを有し、 前記制御部は、 正電圧が印加された前記真空容器内でプラズマが発生しているイオン照射ステップの後に、 接地電圧の真空容器内または負の電圧が印加された真空容器内でプラズマが発生しているチャージアップ緩和ステップが行なわれるように前記電源を制御するイオン照射装置。

IPC (4)：

C23C 14/48 ,  H01J 37/317 ,  H01J 27/24 ,  H01J 37/08

FI (4)：

C23C14/48 C ,  H01J37/317 Z ,  H01J27/24 ,  H01J37/08

F-Term (8)：

4K029CA01 ,  4K029CA10 ,  4K029DB20 ,  4K029DE02 ,  5C030DD08 ,  5C030DE09 ,  5C034CC01 ,  5C034CC13