Pat
J-GLOBAL ID:201503092137298222
気体処理装置および排ガス処理方法
Inventor:
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (4):
野河 信太郎
, 甲斐 伸二
, 金子 裕輔
, 稲本 潔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2013238845
Publication number (International publication number):2015097987
Application date: Nov. 19, 2013
Publication date: May. 28, 2015
Summary:
【課題】本発明は、高温の被処理ガスを熱分解しやすい気体により処理することができる気体処理装置を提供する。【解決手段】本発明の気体処理装置は、被処理ガスが流れる被処理ガス流路と、噴霧器とを備え、前記噴霧器は、第1液体の液滴が第1気体と共に噴出する第1開口を有する噴霧ノズルと、前記噴霧ノズルの周囲に設けられかつ第2気体が噴出する第2開口とを備え、前記噴霧器は、前記被処理ガス中に第1液体の液滴、第1気体および第2気体が噴出するように、少なくともその一部が前記被処理ガス流路中に配置されたことを特徴とする。【選択図】図2
Claim (excerpt):
被処理ガスが流れる被処理ガス流路と、噴霧器とを備え、
前記噴霧器は、第1液体の液滴が第1気体と共に噴出する第1開口を有する噴霧ノズルと、前記噴霧ノズルの周囲に設けられかつ第2気体が噴出する第2開口とを備え、
前記噴霧器は、前記被処理ガス中に第1液体の液滴、第1気体および第2気体が噴出するように、少なくともその一部が前記被処理ガス流路中に配置されたことを特徴とする気体処理装置。
IPC (6):
B01D 53/56
, B01D 53/77
, B05B 7/04
, B05B 7/08
, B01D 53/50
, B01D 53/18
FI (5):
B01D53/34 130C
, B05B7/04
, B05B7/08
, B01D53/34 125C
, B01D53/18 C
F-Term (38):
4D002AA02
, 4D002AA12
, 4D002AC10
, 4D002BA02
, 4D002BA05
, 4D002BA06
, 4D002BA13
, 4D002CA01
, 4D002CA07
, 4D002CA13
, 4D002DA02
, 4D002DA12
, 4D002DA13
, 4D002DA35
, 4D002DA51
, 4D002EA01
, 4D002EA02
, 4D002GA01
, 4D002GB03
, 4D002HA08
, 4D020AA05
, 4D020AA06
, 4D020BA01
, 4D020BA08
, 4D020BA23
, 4D020CB08
, 4D020CC21
, 4D020DA03
, 4D020DB02
, 4F033QA10
, 4F033QB02Y
, 4F033QB03X
, 4F033QB12Y
, 4F033QB16X
, 4F033QD02
, 4F033QD14
, 4F033QD19
, 4F033QD23
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
排ガス処理方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-286354
Applicant:三菱電機株式会社
-
基板処理装置および基板処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-238948
Applicant:芝浦メカトロニクス株式会社
-
排気ガスの処理方法および処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-117734
Applicant:公立大学法人大阪府立大学
Return to Previous Page