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J-GLOBAL ID:201503095910138638

二次元分布を測定する方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 野口 繁雄
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2009075788
Publication number (International publication number):2009258101
Patent number:5646147
Application date: Mar. 26, 2009
Publication date: Nov. 05, 2009
Claim (excerpt):
【請求項1】 (A)X線を二次元の平行光束とする第1コリメータを介して測定しようとするX線の二次元の平行光束を得るステップ、 (B)第1コリメータから出射した二次元の平行光束を互いに平行な複数のチャネルからなる第2コリメータを介して二次元の平行光束として出射させるステップ、及び (C)第2コリメータから出射したX線を二次元検出器で受光して二次元画像として撮像するステップ、 を備えて測定対象の二次元分布を測定する測定方法において、 ステップ(A)の前段のステップとして、試料にX線を照射して蛍光X線を発生させるステップを含み、 ステップ(A)は試料から発生する蛍光X線を受光する位置に第1コリメータを配置して前記蛍光X線を二次元の平行光束にするステップであり、 ステップ(B)は第1コリメータからの二次元の平行光束の蛍光X線を第2コリメータにより二次元の平行光束の蛍光X線として出射させるステップであり、該ステップでは第2コリメータのチャネルの内壁に対する蛍光X線の入射角を複数種類に異ならせ、 ステップ(C)は二次元検出器として二次元のX線検出器を用い、 さらにステップ(C)において異なる入射角の下で撮像した2つの画像データから試料上の各位置でのX線検出信号の差を求めて試料における元素の二次元分布画像を作成するステップを含むことにより、試料での元素の二次元分布を測定する測定方法。
IPC (4):
G01N 23/223 ( 200 6.01) ,  G01N 21/27 ( 200 6.01) ,  G21K 1/02 ( 200 6.01) ,  G21K 1/00 ( 200 6.01)
FI (4):
G01N 23/223 ,  G01N 21/27 A ,  G21K 1/02 C ,  G21K 1/00 X
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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