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J-GLOBAL ID:201503095910138638
二次元分布を測定する方法及び装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
野口 繁雄
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2009075788
Publication number (International publication number):2009258101
Patent number:5646147
Application date: Mar. 26, 2009
Publication date: Nov. 05, 2009
Claim (excerpt):
【請求項1】 (A)X線を二次元の平行光束とする第1コリメータを介して測定しようとするX線の二次元の平行光束を得るステップ、
(B)第1コリメータから出射した二次元の平行光束を互いに平行な複数のチャネルからなる第2コリメータを介して二次元の平行光束として出射させるステップ、及び
(C)第2コリメータから出射したX線を二次元検出器で受光して二次元画像として撮像するステップ、
を備えて測定対象の二次元分布を測定する測定方法において、
ステップ(A)の前段のステップとして、試料にX線を照射して蛍光X線を発生させるステップを含み、
ステップ(A)は試料から発生する蛍光X線を受光する位置に第1コリメータを配置して前記蛍光X線を二次元の平行光束にするステップであり、
ステップ(B)は第1コリメータからの二次元の平行光束の蛍光X線を第2コリメータにより二次元の平行光束の蛍光X線として出射させるステップであり、該ステップでは第2コリメータのチャネルの内壁に対する蛍光X線の入射角を複数種類に異ならせ、
ステップ(C)は二次元検出器として二次元のX線検出器を用い、
さらにステップ(C)において異なる入射角の下で撮像した2つの画像データから試料上の各位置でのX線検出信号の差を求めて試料における元素の二次元分布画像を作成するステップを含むことにより、試料での元素の二次元分布を測定する測定方法。
IPC (4):
G01N 23/223 ( 200 6.01)
, G01N 21/27 ( 200 6.01)
, G21K 1/02 ( 200 6.01)
, G21K 1/00 ( 200 6.01)
FI (4):
G01N 23/223
, G01N 21/27 A
, G21K 1/02 C
, G21K 1/00 X
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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X線分析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-195944
Applicant:理学電機工業株式会社
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全反射蛍光X線分析法およびその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-215631
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構
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例示的な乳房組織についての体組織の特徴付けにおけるコンプトン散乱の利用、又はXRF(X線蛍光)及びEDXRD(エネルギ分散型X線回折)の組み合わせの利用
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2006-543624
Applicant:ティシュオミクスリミテッド
-
放射線解析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-050421
Applicant:フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ
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X線分析装置および蛍光X線分析用アタッチメント
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-070414
Applicant:理学電機株式会社
-
全反射蛍光X線分析方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-231713
Applicant:独立行政法人科学技術振興機構
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光学計測システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-275677
Applicant:三鷹光器株式会社
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蛍光線分析装置及び蛍光線分析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-144906
Applicant:ソニー株式会社
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任意波長選択フィルタ、マルチチャネルモニタおよび生体検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-043233
Applicant:サンテック株式会社
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複屈折測定法及びそれを用いた複屈折測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-171004
Applicant:キヤノン株式会社
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光学特性測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-282523
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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光断層画像化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-152007
Applicant:富士フイルム株式会社, フジノン株式会社
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光画像計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-380458
Applicant:株式会社トプコン
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生物学的組織からの電磁反射波の検出方法と装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平9-500707
Applicant:ユニバーシティ・オブ・アーカンソー
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