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J-GLOBAL ID：201602002672043310   Reference number：67A0336631

シリコン中のニッケルの解離拡散とシリコンの自己拡散

Author (2)： YOSHIDA M (電通研) ,  SAITO K (電通研)
Material： Jpn J Appl Phys  (Japanese Journal of Applied Physics)
Volume： 6  Issue： 5  Page： 573-581  Publication year： 1967 
JST Material Number： G0520A  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPA   Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (3)： シリコン ,  ニッケル ,  自己拡散