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J-GLOBAL ID：201602006265450054   Reference number：58A0026495

Precipitation des acides resiniques par les sels d’hexamethylene diamine.

ヘキサメチレンジアミン塩による樹脂酸(C₂₀H₃₀O₂)の沈殿

Author (2)： DFSALBRFS L ,  DUBEARNES R
Material： Bull Soc Chim Fr  (Bulletin de la Societe Chimique de France)
Volume： 1958  Issue： 2  Page： 229-230  Publication year： 1958 
JST Material Number： B0150A  Document type： Article
Country of issue： France (FRA) 

Terms in the title (4)： ヘキサメチレンジアミン ,  塩 ,  樹脂酸 ,  沈殿