Art

J-GLOBAL ID：201602013723946010   Reference number：58A0011324

Masking Methods in Offset Lithography.

平版印刷におけるマスキング法(何故にマスキングが必要であるかを説明し,合せて分解ネガおよびマスクを作るに必要な濃度域の決定法を記述)

Author (2)： MITCHENER G A ,  LAWSON L E
Material： Lithogr Offset Printer  (Lithographer and Offset Printer)
Volume： 54  Issue： 6  Page： 35-36  Publication year： 1958 
JST Material Number： D0107A  CODEN： LIOPA   Document type： Article
Country of issue： United Kingdom (GBR) 

Terms in the title (7)： 平版印刷 ,  マスキング ,  説明 ,  分解 ,  ネガ ,  マスク ,  記述