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J-GLOBAL ID：201602015568064555   Reference number：58A0066404

Enhanced Cu Concentration in Ge Containing Ni at 500°C.

500°Cで,Ni入りGe中へのCuの浸透が強まる現象

Author (2)： TWEET A G ,  TYLER W W
Material： J Appl Phys  (Journal of Applied Physics)
Volume： 29  Issue： 11  Page： 1578-1580  Publication year： 1958 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  Document type： Article
Country of issue： United States (USA) 

Terms in the title (5)： Ni ,  Ge ,  Cu ,  浸透 ,  現象