Art

J-GLOBAL ID：201602020181650913   Reference number：72A0025746

Calculation of deposition profiles and compositional analysis of cosputtered films.

同時スパッタ膜の蒸薪プロフィルの計算と組成の解析

Author (3)： HANAK J J ,  LEHMANN H W ,  WEHNER R K
Material： J Appl Phys  (Journal of Applied Physics)
Volume： 43  Issue： 4  Page： 1666-1673  Publication year： 1972 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Semi thesaurus term： Knudsen則 ,  スパッタ膜 ,  組成 ,  同時スパッタ膜

Terms in the title (5)： スパッタ膜 ,  プロフィル ,  計算 ,  組成 ,  解析