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J-GLOBAL ID：201602020650551247   Reference number：58A0020409

Kinetics of the Oxidation and Nitridation of Silicon at High Temperatures.

高温における酸素,二酸化炭素,窒素または0.2%窒素を含むアルゴン中のけい素の酸化または窒化反応速度

Author (2)： EVANS J W ,  CHATTERJI S K
Material： J Phys Chem  (Journal of Physical Chemistry)
Volume： 62  Issue： 9  Page： 1064-1067  Publication year： 1958 
JST Material Number： C0334A  ISSN： 0022-3654  CODEN： JPCHAX  Document type： Article
Country of issue： United States (USA) 

Terms in the title (8)： 酸素 ,  二酸化炭素 ,  窒素 ,  アルゴン ,  けい素 ,  酸化 ,  窒化 ,  反応速度