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J-GLOBAL ID：201602021243118624   Reference number：71A0280077

Si脱酸反応機構と冷却凝固過程におけるSiO₂介在物の生成について

Author (2)： 坂上六郎 ,  笹井興士
Material： 鉄と鋼
Volume： 57  Issue： 13  Page： 1953-1962  Publication year： 1971 
JST Material Number： F0332A  ISSN： 0021-1575  CODEN： TEHAA   Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： 凝固 ,  脱酸 ,  非金属介在物
Semi thesaurus term： 製〓

Reference (8)：

• 1) 坂上, 川崎, 鈴木, 佐藤: 鉄と鋼, 55 (1969), p.550
• 2) W. A. FISCHER and M. WAHLSTER: Arch. Eisenhüttenw., 28 (1957), p.601
• 3) E. T. TURKDOGAN: JISI, 204 (1966), p.914
• 4) 坂上, 笹井: 鉄と鋼
• 5) H. SCHENCK, E. STEINMETZ. and K. K. MEHTA: Arch. Eisenhüttenw., 41 (1970), p.131

Terms in the title (6)： Si ,  脱酸 ,  冷却凝固 ,  過程 ,  SiO2 ,  介在物