Art

J-GLOBAL ID：201602219219652347   Reference number：16A1358592

Refractive-index modifications in Silica-Based Films by Undurator Radiation with a multilayer spectrometer

多層スペクトロメータを用いたアンジュレータ放射によるシリカベースの薄膜中の屈折率改良

Author (4)： MORIWAKI K. (Kobe Univ.) ,  KIMURA G. (Kobe Univ.) ,  KANDA K. (Kobe Univ.) ,  MATSUI S. (Univ. Hyogo)
Material： LASTI Annual Report  (LASTI Annu Rep)
Volume： 17  Page： 55-56  Publication year： Sep. 2016 
JST Material Number： L4711A  ISSN： 2189-6909  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *synchrotron radiation ,  multilayer film ,  thin film ,  *refractive index ,  *silicon dioxide ,  synchrotron radiation facility ,  *X-ray spectrometer ,  *undulator radiation ,  NewSUBARU
Semi thesaurus term： silica ,  軟X線照射

JST classification (2)： Irradiational changes of other materials  (BK16124V) ,  Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (6)： 多層 ,  スペクトロメータ ,  アンジュレータ放射 ,  シリカ ,  薄膜 ,  屈折率