Art

J-GLOBAL ID：201602221397715903   Reference number：16A1190848

プラズマ分子線散乱法による水素ラジカル吸着の計測

Author (4)： SAIKI YU (名古屋工大) ,  KINEFUCHI IKUYA (東大) ,  FAN Yong (東大) ,  SUZUKI YUJI (東大)
Material： 日本伝熱シンポジウム講演論文集(CD-ROM)
Volume： 53rd  Page： ROMBUNNO.I321  Publication year： 2016 
JST Material Number： F0872D  ISSN： 1346-1532  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *combustor ,  *quenching (flame) ,  *wall effect ,  radical ,  Hydrogen ,  Adsorption ,  surface reaction ,  evaluation ,  quantitative analysis (analytical chemistry) ,  molecular beam ,  measurement ,  scattering ,  scattering measurement ,  hydrogen radical ,  surface adsorption
Semi thesaurus term： quantitative evaluation ,  molecular beam ,  *wall effect

JST classification (2)： Study of adsorption by physical means  (CB12043P) ,  Combution equipment in general  (PA03010V)

Terms in the title (6)： プラズマ ,  分子線 ,  散乱 ,  水素ラジカル ,  吸着 ,  計測