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J-GLOBAL ID：201602225305868239   Reference number：16A0782536

Plasma post-treatment process for enhancing electron field emission properties of ultrananocrystalline diamond films

超ナノ結晶性ダイヤモンド膜の電子電界放出特性の増大を目的とするプラズマ後処理

Author (4)： Yeh Chien-Jui (Department of Engineering and System Science, National Tsing Hua University, Hsinchu, Taiwan 300, Taiwan ROC) ,  Chang Hsin-Tzer (Department of Physics, Tamkang University, Tamsui, Taiwan 251, Taiwan ROC) ,  Leou Keh-Chyang (Department of Engineering and System Science, National Tsing Hua University, Hsinchu, Taiwan 300, Taiwan ROC) ,  Lin I-Nan (Department of Physics, Tamkang University, Tamsui, Taiwan 251, Taiwan ROC)
Material： Diamond and Related Materials  (Diam Relat Mater)
Volume： 63  Page： 197-204  Publication year： Mar. 2016 
JST Material Number： W0498A  ISSN： 0925-9635  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *Diamond ,  nano crystal ,  evaporated film ,  field emission ,  improvement ,  texture (metal) ,  chemical modification ,  plasma treatment ,  cluster ,  Graphite ,  *crystal grain size (diameter) ,  electron energy loss spectroscopy ,  scanning electron microscope ,  transmission electron microscope ,  Raman spectroscopy ,  current-voltage characteristic ,  *ore ,  *precious stone
Semi thesaurus term： *超ナノ結晶性ダイヤモンド膜 ,  *電子電界放出特性 ,  performance improvement ,  granular structure ,  *プラズマ後処理 ,  黒鉛クラスタ

Author keywords (3)： Ultrananocrystalline diamond films ,  Plasma post-treatment process ,  Electron field emission properties

JST classification (4)： Carbon and its compounds  (YB02060D) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Thermoionic emission and field emission  (BM09020S) ,  Applications of plasma  (BJ02110K)

Terms in the title (5)： ナノ結晶 ,  ダイヤモンド膜 ,  電子 ,  電界放出 ,  プラズマ