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J-GLOBAL ID：201602243680824280   Reference number：16A1028159

環境セル型透過電子顕微鏡a-SiCN隔膜への窒素プラズマ照射による効果

Author (3)： MURANO MASANORI (近畿大 大学院) ,  MATSUTANI TAKAOMI (近畿大) ,  KAWASAKI TADAHIRO (ファインセラミックスセ)
Material： 電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集(CD-ROM)  (電気学会基礎・材料・共通部門大会(CD-ROM))
Volume： 2016  Page： ROMBUNNO.5-P-9  Publication year： Sep. 05, 2016 
JST Material Number： L3783B  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *transmission electron microscope ,  *diaphragm (membrane) ,  plasma ,  gas phase reaction ,  silicon compound ,  carbide ,  nitride ,  thin film growth ,  high-resolution ,  thickness ,  *plasma exposure ,  pulse plasma ,  silicon carbonitride
Semi thesaurus term： flattening

JST classification (1)： Electron and ion microscopes  (BD02050B)

Terms in the title (5)： 環境 ,  セル ,  透過電子顕微鏡 ,  隔膜 ,  窒素プラズマ