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J-GLOBAL ID：201602246373726974   Reference number：16A1063374

反応性スパッタリング法によるマイクロヒータ用TiN薄膜の作製

Author (3)： TAKAOKA TOSHIMASA (東京工高専) ,  NIKKUNI HIROYUKI (東京工高専) ,  ITO HIROSHI (東京工高専)
Material： 電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  (電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集(CD-ROM))
Volume： 2016  Issue： ソサイエティ大会  Page： ROMBUNNO.C-10-4  Publication year： Sep. 06, 2016 
JST Material Number： G0508B  ISSN： 1349-144X  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *heater ,  titanium compound ,  nitride ,  *thin film ,  reactive sputtering ,  sensor ,  *micro heater
Semi thesaurus term： TiN ,  *窒化チタン薄膜

JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (4)： 反応性スパッタリング ,  マイクロヒータ ,  TiN薄膜 ,  作製