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J-GLOBAL ID：201602275406529468   Reference number：16A1108298

Control of morphological defects at the boundary between the periodic and non-periodic patterns in directed self-assembly process

直接自己集合プロセスにおける周期的パターンと非周期的パターンの境界における形態的欠陥の制御

Author (11)： YOSHIDA Akihisa (Kyoto Univ., JPN) ,  YOSHIMOTO Kenji (Kyoto Univ., JPN) ,  OHSHIMA Masahiro (Kyoto Univ., JPN) ,  KODERA Katsuyoshi (Toshiba Corp., JPN) ,  NAKA Yoshihiro (Toshiba Corp., JPN) ,  KANAI Hideki (Toshiba Corp., JPN) ,  KOBAYASHI Sachiko (Toshiba Corp., JPN) ,  MAEDA Simon (Toshiba Corp., JPN) ,  JIRAVANICHSAKUL Phubes (Toshiba Corp., JPN) ,  KOBAYASHI Katsutoshi (Toshiba Corp., JPN) ,  AOYAMA Hisako (Toshiba Corp., JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 9777  Page： 97771O.1-97771O.7  Publication year： 2016 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *pattern formation ,  *self-organizing ,  periodic structure ,  etching ,  epitaxy ,  *lithography ,  resist ,  self assembly ,  boundary condition ,  semiconductor process ,  polymer ,  surface defect ,  polystyrene ,  lamella ,  *polymer thin film ,  polymethyl methacrylate
Semi thesaurus term： graphoepitaxy

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Physical properties of polymer solids  (CG02024U)

Terms in the title (5)： 自己集合 ,  プロセス ,  境界 ,  形態 ,  欠陥