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J-GLOBAL ID：201602284729964279   Reference number：16A1038132

Formation of SiO₂-like Thin Films under Atomospheric Pressure by Vacuum Ulraviolet CVD using Ultrasonic Assisted Vaporizer

超音波気化支援装置を用いた真空紫外光CVDによる石英様薄膜の常圧形成に関する研究

Author (4)： KUWAZURU YASUNORI (宮崎大) ,  INOUE YUKI (宮崎大) ,  KAMEYAMA AKIHIRO (宮崎大) ,  YOKOTANI ATSUSHI (宮崎大)
Material： 宮崎大学工学部紀要(Web)  (Memoirs of Faculty of Engineering, University of Miyazaki (Web))
Issue： 45  Page： 95-99 (WEB ONLY)  Publication year： Jul. 29, 2016 
JST Material Number： U0521A  ISSN： 0540-4924  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *silica glass ,  *dielectric thin film ,  *photo-CVD ,  vacuum ultraviolet radiation ,  *ultrasonic wave ,  *carburetor ,  Vapor Pressure ,  thin film growth ,  plastic ,  optical element ,  vibrator ,  solid state device ,  protective film ,  fine particle ,  spherical shape ,  atomization (spray) ,  spherical particle ,  ultrasonic vibrator

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Substance index (1)： Tetraethoxysilane

Terms in the title (8)： 超音波 ,  気化 ,  支援装置 ,  光CVD ,  石英 ,  薄膜 ,  常圧 ,  研究