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J-GLOBAL ID：201603001327710092

イオンミリング装置

Inventor： 金子 朝子 ,  高須 久幸 ,  武藤 宏史 ,  岩谷 徹 ,  許斐 麻美
Applicant, Patent owner： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
Agent (3)： 井上 学 ,  戸田 裕二 ,  岩崎 重美
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2015522636
Patent number：5857158
Application date： Apr. 28, 2014
Claim (excerpt)：

【請求項1】 イオンビームが照射される試料を支持する試料台を備えたイオンミリング装置において、 前記試料の一部を前記イオンビームに曝しつつ当該試料をイオンビームに対して遮蔽する遮蔽材を支持する遮蔽材支持部材と、当該遮蔽材支持部材と前記試料台の少なくとも一方の温度を制御する温度制御機構を有し、前記イオンビームの照射中、前記試料台の試料との接触面を前記試料の変形に追従して移動させる移動機構と、前記遮蔽材と試料との間に配置され、前記イオンビームの照射中、前記試料の変形に追従して変形する試料保持部材の少なくとも1つを備えたことを特徴とするイオンミリング装置。

IPC (3)：

H01J 37/20 ( 200 6.01) ,  H01J 37/30 ( 200 6.01) ,  G01N 1/28 ( 200 6.01)

FI (6)：

H01J 37/20 A ,  H01J 37/20 E ,  H01J 37/20 Z ,  H01J 37/30 Z ,  G01N 1/28 G ,  G01N 1/28 K