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J-GLOBAL ID：201603001511633688

酸化物前駆体のパターン形成方法

Inventor： 下田 達也 ,  廣瀬 大亮 ,  永原 幸児 ,  芳本 祐樹
Applicant, Patent owner： 国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学
Agent (1)： 海野 徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015051501
Publication number (International publication number)：2016170361
Application date： Mar. 14, 2015
Publication date： Sep. 23, 2016
Summary：

【課題】 フォトレジスト及びドライエッチングを用いない酸化物前駆体のパターン形成方法を提供する。【解決手段】 本発明の酸化物前駆体のパターン形成方法は、紫外線(UV)を酸化物前駆体に照射し、酸化物前駆体の溶剤に対する溶解性を変化させるUV照射工程と、UV照射した前記酸化物前駆体を溶剤に浸漬し、非UV照射部を溶解させる溶剤浸漬工程を含むことを特徴とする。溶解性が異なる部分をパターン状に作製し、その後、溶剤に浸漬してUVが照射されない部分を溶解除去して、酸化物のパターンを得るという方法を発明した。本発明では酸化物前駆体にUVを部分的に照射し、溶剤に浸漬することによって、フォトレジスト及び、ドライエッチングを用いないパターニングを行うことができる。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

紫外線(UV)を酸化物前駆体に照射し、酸化物前駆体の溶剤に対する溶解性を変化させるUV照射工程と、UV照射した前記酸化物前駆体を溶剤に浸漬し、非UV照射部を溶解させる溶剤浸漬工程を含むことを特徴とする酸化物前駆体のパターン形成方法。

IPC (3)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/20 ,  H05K 3/06

FI (4)：

G03F7/004 ,  G03F7/20 502 ,  G03F7/20 521 ,  H05K3/06 A

F-Term (25)：

2H125AB03 ,  2H125CA11 ,  2H125CB02 ,  2H125CC01 ,  2H125EA22P ,  2H125FA05 ,  2H197AA15 ,  2H197CA03 ,  2H197CA06 ,  2H197HA03 ,  2H225AB03 ,  2H225CA11 ,  2H225CB02 ,  2H225CC01 ,  2H225CD05 ,  2H225EA22P ,  5E339BC05 ,  5E339BD03 ,  5E339BD07 ,  5E339BD14 ,  5E339BE05 ,  5E339BE11 ,  5E339DD04 ,  5E339GG02 ,  5E339GG10