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J-GLOBAL ID：201603001707575864

チオアルドヘキソース誘導体及びその製造方法

Inventor： 青木 伸 ,  田中 智博 ,  久松 洋介 ,  澤本 泰宏 ,  坂口 謙吾 ,  菅原 二三男
Applicant, Patent owner： 学校法人東京理科大学
Agent (1)： 正林 真之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015027694
Publication number (International publication number)：2016150905
Application date： Feb. 16, 2015
Publication date： Aug. 22, 2016
Summary：

【課題】3-(6-デオキシスルホアルドヘキソース)-1-プロパノール誘導体の新規合成法及び新規中間体を提供すること。【解決手段】下記式(III)で表されるチオアルドヘキソース誘導体。式中、Rは置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよいアリール基を表し、R21、R31及びR41は同一又は異なってヒドロキシ基の保護基を表し、-OR61は脱離基を表す。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記式(III)で表されるチオアルドヘキソース誘導体。

IPC (3)：

C07H 15/203 ,  C07H 15/04 ,  C07H 15/06

FI (3)：

C07H15/203 ,  C07H15/04 ,  C07H15/06

F-Term (7)：

4C057AA17 ,  4C057AA18 ,  4C057BB02 ,  4C057CC05 ,  4C057JJ05 ,  4C057JJ07 ,  4C057JJ23