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J-GLOBAL ID：201603004634099936

希土類薄膜磁石及びその製造方法並びに希土類薄膜磁石形成用ターゲット

Inventor： 中野 正基 ,  福永 博俊 ,  柳井 武志 ,  板倉 賢 ,  澤渡 広信
Applicant, Patent owner： JX日鉱日石金属株式会社
Agent (2)： 小越 勇 ,  小越 一輝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014115719
Publication number (International publication number)：2015230944
Application date： Jun. 04, 2014
Publication date： Dec. 21, 2015
Summary：

【課題】良好な磁気特性を有し、量産性・再現性に優れた、希土類薄膜磁石及びその製造方法並びに希土類薄膜磁石を作製するためのターゲットを提供する。【解決手段】パルスレーザーデポジション法による成膜で使用するターゲットの組成及びパルスレーザー強度密度を最適化することにより、単相からなる1枚のターゲットから、α-Fe相とNd2Fe14B相とが三次元的に交互配列したナノコンポジット構造を有する希土類薄膜を成膜する。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

Nd、Fe、Bを必須成分とする希土類薄膜磁石であって、α-Fe相とNd2Fe14B相とが三次元的に交互配列した組織からなり、各相の平均結晶粒径が10〜30nmであることを特徴とする希土類薄膜磁石。

IPC (8)：

H01F 1/057 ,  C23C 14/24 ,  C23C 14/58 ,  C23C 14/16 ,  H01F 10/14 ,  H01F 41/18 ,  C22C 38/00 ,  H01F 41/02

FI (8)：

H01F1/04 H ,  C23C14/24 E ,  C23C14/58 ,  C23C14/16 D ,  H01F10/14 ,  H01F41/18 ,  C22C38/00 303D ,  H01F41/02 G

F-Term (25)：

4K029AA02 ,  4K029AA24 ,  4K029BA21 ,  4K029BB08 ,  4K029BC06 ,  4K029CA01 ,  4K029DB04 ,  4K029DB08 ,  4K029DB20 ,  4K029EA09 ,  4K029GA01 ,  5E040AA04 ,  5E040CA01 ,  5E040HB19 ,  5E040NN06 ,  5E040NN14 ,  5E040NN17 ,  5E049AA01 ,  5E049AC05 ,  5E049BA01 ,  5E049CB01 ,  5E049FC10 ,  5E062CC10 ,  5E062CD04 ,  5E062CG02

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• Effect of laser beam parameters on magnetic properties of Nd-Fe-B thick-film magnets fabricated by p
• ナノ結晶構造を持つ軟質および硬質磁性材料における保持力機構の解析

Cited by examiner (2)

• ナノ結晶構造を持つ軟質および硬質磁性材料における保持力機構の解析
• Effect of laser beam parameters on magnetic properties of Nd-Fe-B thick-film magnets fabricated by p