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J-GLOBAL ID:201603005518217588

培地及び強光阻害抑制方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 秋山 敦 ,  城田 百合子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2015063801
Publication number (International publication number):2016182063
Application date: Mar. 26, 2015
Publication date: Oct. 20, 2016
Summary:
【課題】屋外の培養槽でのユーグレナ培養の増殖速度の低下を抑制し、ユーグレナの生産性を向上可能な培地及び強光阻害抑制方法を提供する。【解決手段】生体親和性部位と酸化還元活性部位を備えた細胞膜透過性電子メディエーターを含み、ユーグレナの電気化学培養に使用される、ユーグレナの強光阻害を抑制するための培地である。また、電極を備えた培養装置に供給されたこの培地で、ユーグレナを電気化学培養することを特徴とする強光阻害抑制方法である。【選択図】図3
Claim (excerpt):
生体親和性部位と酸化還元活性部位を備えた細胞膜透過性電子メディエーターを含み、ユーグレナの電気化学培養に使用される、ユーグレナの強光阻害を抑制するための培地。
IPC (3):
C12N 1/00 ,  C08F 220/36 ,  C08F 230/04
FI (3):
C12N1/00 G ,  C08F220/36 ,  C08F230/04
F-Term (13):
4B065AA86X ,  4B065BB13 ,  4B065BC18 ,  4B065BC48 ,  4B065BC50 ,  4B065CA41 ,  4B065CA60 ,  4J100AL08P ,  4J100AP00Q ,  4J100AP21Q ,  4J100BA32P ,  4J100BA64P ,  4J100BA65P
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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