無電解メッキ用前処理液および無電解メッキ方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：宮崎悟 , 後藤圭次 , 船越巧子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014146991
Publication number (International publication number)：2016023323
Application date： Jul. 17, 2014
Publication date： Feb. 08, 2016
Summary：

【課題】非導電性物質表面に微細な回路形成および広範囲に均一な膜厚の薄膜形成を可能にする前処理液およびその前処理液を用いた無電解メッキ方法を提供する。【解決手段】無電解メッキ用前処理液は、貴金属コロイドナノ粒子、糖アルコールおよび水からなり、コロイドナノ粒子は、金(Au)、白金(Pt)またはパラジウム(Pd)のいずれかであり、コロイドナノ粒子の平均粒径が5〜80ナノメートルであり、コロイドナノ粒子は金属質量として前処理液中に0.01〜10g/L含有し、糖アルコールは、トリトール、テトリトール、ペンチトール、ヘキシトール、ヘプチトール、オクチトール、イノシトール、クエルシトール、ペンタエリスリトールからなる群のうちの少なくとも1種以上を合計で前処理液中に0.01〜200g/L含有している。また、無電解メッキ方法は、前処理剤を用いて無電解メッキ浴にて無電解メッキする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

貴金属コロイドナノ粒子、糖アルコールおよび水とからなる無電解メッキ用前処理液において、当該コロイドナノ粒子は、金(Au)、白金(Pt)またはパラジウム(Pd)のいずれかであり、当該コロイドナノ粒子の平均粒径が5〜80ナノメートルであり、当該コロイドナノ粒子は金属質量として前処理液中に0.01〜10g/L含有し、当該糖アルコールは、トリトール、テトリトール、ペンチトール、ヘキシトール、ヘプチトール、オクチトール、イノシトール、クエルシトール、ペンタエリスリトールからなる群のうちの少なくとも1種以上を合計で前処理液中に0.01〜200g/L含有し、残部が水であることを特徴とする無電解メッキ用前処理液。

IPC (2)：

C23C 18/18 , C23C 18/20

FI (2)：

C23C18/18 , C23C18/20 A

F-Term (10)：

4K022AA05 , 4K022BA03 , 4K022BA14 , 4K022BA18 , 4K022CA06 , 4K022CA19 , 4K022CA21 , 4K022CA22 , 4K022DA01 , 4K022DB03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

特開昭62-235473

Cited by examiner (1)

特開昭62-235473

Return to Previous Page