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J-GLOBAL ID：201603006117833762

パターン欠陥検査装置及びパターン欠陥検査方法

Inventor： 岩本 正実
Applicant, Patent owner： 株式会社ブイ・テクノロジー
Agent (3)： 小川 護晃 ,  西山 春之 ,  奥山 尚一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014180943
Publication number (International publication number)：2016057068
Application date： Sep. 05, 2014
Publication date： Apr. 21, 2016
Summary：

【課題】疑似欠陥の検出を抑制したパターンの欠陥検査を自動で行い得るようにする。【解決手段】パターンを撮影する撮像装置1と、撮像装置1で撮影された検査画像の欠陥を検出するために、該検査画像と比較される比較画像のパターンエッジからの距離に応じて該比較画像を複数の領域に区分けし、検査画像の輝度値と比較画像の輝度値との差分出力から欠陥を検出するための欠陥検出閾値を上記領域毎に変化させ得るようにした画像処理装置2と、を備えたものである。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

パターンを撮影する撮像装置と、 前記撮像装置で撮影された検査画像の欠陥を検出するために、該検査画像と比較される比較画像のパターンエッジからの距離に応じて該比較画像を複数の領域に区分けし、前記検査画像の輝度値と前記比較画像の輝度値との差分出力から欠陥を検出するための欠陥検出閾値を前記領域毎に変化させ得るようにした画像処理装置と、 を備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (4)：

G01N 21/956 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/66 ,  G06T 1/00

FI (4)：

G01N21/956 Z ,  G01N21/88 J ,  H01L21/66 J ,  G06T1/00 305A

F-Term (24)：

2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051CA03 ,  2G051CA12 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051ED07 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ28 ,  5B057AA03 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB08 ,  5B057DB09 ,  5B057DC16 ,  5B057DC33