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J-GLOBAL ID:201603006687772481

バナジン酸ビスマス積層体の製造方法及びバナジン酸ビスマス積層体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 正林 真之
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2015504331
Patent number:6021086
Application date: Mar. 04, 2014
Claim (excerpt):
【請求項1】 バナジウム塩とビスマス塩とを含む前駆体溶液中に、マイクロ波で加熱可能な基板を配置し、マイクロ波支援化学浴析出法(MW-CBD)により、前記基板上にバナジン酸ビスマス層を形成する工程を含むバナジン酸ビスマス積層体の製造方法。
IPC (5):
C01G 31/00 ( 200 6.01) ,  B01J 23/22 ( 200 6.01) ,  B01J 35/02 ( 200 6.01) ,  B01J 37/34 ( 200 6.01) ,  B01J 37/02 ( 200 6.01)
FI (6):
C01G 31/00 ,  B01J 23/22 M ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/34 ,  B01J 37/02 301 N ,  B01J 37/02 301 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
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