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J-GLOBAL ID：201603007327413398

放射線治療システム

Inventor： 藤井 孝明 ,  梅川 徹 ,  えび名 風太郎 ,  青木 孝道 ,  梅垣 菊男 ,  宮本 直樹 ,  平田 雄一 ,  山田 貴啓
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  国立大学法人北海道大学
Agent (1)： 特許業務法人開知国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014245662
Publication number (International publication number)：2016106756
Application date： Dec. 04, 2014
Publication date： Jun. 20, 2016
Summary：

【課題】標的に対する照射精度を維持しつつ、X線撮影の頻度を抑えることにより透視X線撮影装置の負荷を低減できる放射線治療システムを提供する。【解決手段】透視X線撮影制御装置55は、放射線照射装置10によって治療放射線を照射できるときはX線撮影の撮影間隔を標的への照射精度を確保可能な標準撮影間隔に変更し、前記放射線照射装置によって治療放射線を照射できないときはX線撮影の撮影間隔を前記標準撮影間隔よりも大きくかつ前記標的の位置を追跡可能な照射不可時撮影間隔に変更する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

治療放射線を発生させる放射線発生装置と、 前期放射線発生装置で発生させた治療放射線を標的に向けて照射する放射線照射装置と、 前記標的のX線画像を撮影する透視X線撮影装置と、 所定の撮影間隔で間欠的に前記標的のX線画像を撮影するように前記透視X線撮影装置を制御する透視X線撮影制御装置と、 前記透視X線撮影装置で撮影したX線画像から求めた前記標的の位置に応じて前記放射線照射装置を制御する照射制御装置とを備えた放射線治療システムにおいて、 前記透視X線撮影制御装置は、前記放射線照射装置が治療放射線を照射できる状態のときは前記所定の撮影間隔を前記標的への照射精度を確保可能な第1撮影間隔に変更し、前記放射線照射装置が治療放射線を照射できない状態のときは前記所定の撮影間隔を前記第1撮影間隔よりも大きくかつ前記標的の位置を追跡可能な第2撮影間隔に変更することを特徴とする放射線治療システム。

IPC (1)：

A61N 5/10

FI (3)：

A61N5/10 H ,  A61N5/10 M ,  A61N5/10 S

F-Term (7)：

4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE03 ,  4C082AG24 ,  4C082AJ07 ,  4C082AP08 ,  4C082AR02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 放射線治療システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-333280   Applicant：株式会社日立製作所
• 粒子線治療装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-052796   Applicant：株式会社日立製作所
• 粒子線治療計画装置および粒子線治療装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2011-091660   Applicant：株式会社日立製作所