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J-GLOBAL ID:201603008292318610
透明導電膜および積層構造体
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2015002541
Publication number (International publication number):2016126988
Application date: Jan. 08, 2015
Publication date: Jul. 11, 2016
Summary:
【課題】半導体膜との密着性に優れ、さらに、透過性に優れ、また、耐酸性や耐久性にも優れた低抵抗の透明導電膜を提供する。【解決手段】金属酸化物を主成分として含む透明導電膜を、原料溶液を霧化または液滴化して生成されるミストまたは液滴を、キャリアガスでもって基体まで搬送し、ついで該基体上で該ミストまたは該液滴を加熱により熱反応させて形成する。また、前記透明導電膜上に、半導体膜を、原料溶液を霧化または液滴化して生成されるミストまたは液滴を、キャリアガスでもって基体まで搬送し、ついで該基体上で該ミストまたは該液滴を加熱により熱反応させて形成することにより、積層構造体を得る。【選択図】なし
Claim (excerpt):
金属酸化物を主成分として含む透明導電膜であって、原料溶液を霧化または液滴化して生成されるミストまたは液滴を、キャリアガスでもって基体まで搬送し、ついで該基体上で該ミストまたは該液滴を加熱により熱反応させてなる結晶膜であることを特徴とする透明導電膜。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (17):
4K044AA01
, 4K044AA11
, 4K044AA16
, 4K044BA12
, 4K044BC14
, 4K044CA14
, 4K044CA24
, 4K044CA44
, 5G307FA01
, 5G307FB01
, 5G307FC02
, 5G307FC05
, 5G307FC09
, 5G307FC10
, 5G323BA02
, 5G323BB03
, 5G323BC01
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