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J-GLOBAL ID：201603010219110312

光拡散状態を可逆的に変更可能な光拡散可変装置

Inventor： 大園 拓哉
Applicant, Patent owner： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013023033
Publication number (International publication number)：2014153530
Patent number：6032675
Application date： Feb. 08, 2013
Publication date： Aug. 25, 2014
Claim (excerpt)：

【請求項1】 光拡散積層体と、光拡散積層体の表面方向ひずみを調整し、光拡散積層体に表面座屈凹凸構造を誘起し得るひずみ調整部とを具備する、光拡散状態を可逆的に変更可能な光拡散可変装置であって、 前記光拡散積層体は、柔軟性を有する基板と、基板上に設けられた薄膜層とを備え、 基板の材料の弾性率は、0.1〜10MPaであり、 薄膜層の材料の弾性率は、0.1〜100GPaであり、 基板の材料の弾性率(Ea)と薄膜層の材料の弾性率(Eb)の比(Ea/Eb)は、10-5〜10-1であり、 薄膜層の厚みは、0.0001〜0.1mmであり、 基板の厚みは、0.3〜20mmであり、 前記表面座屈凹凸構造は、凹凸空間周期が0.1mm以上10mm以下であり、前記ひずみ調整部により調整される表面方向ひずみに応じて、そのアスペクト比(溝深さ/凹凸空間周期)が0〜0.3の範囲内で変化するものであることを特徴とする光拡散状態を可逆的に変更可能な光拡散可変装置。

IPC (1)：

G02B 5/02 ( 200 6.01)

FI (1)：

G02B 5/02 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-142401
  
• 凹凸パターン形成シートの製造方法および凹凸パターン形成シート
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-151061   Applicant：王子製紙株式会社
• 引張応力により構造色が変化する周期構造を有する弾性体材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2011-165348   Applicant：独立行政法人物質・材料研究機構
• 光学フィルム及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-066335   Applicant：日立化成工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Spontaneous formation of ordered structures in thin films of metals supported on an elastomeric poly