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J-GLOBAL ID：201603011223560566

銅スラグの処理方法

Inventor：
内田 修司

About 内田 修司

, 
羽切 正英

About 羽切 正英

, 
小島 悠人

About 小島 悠人


Applicant, Patent owner：
独立行政法人国立高等専門学校機構

About 独立行政法人国立高等専門学校機構


Agent (1)： 特許業務法人創成国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015037696
Publication number (International publication number)：2016160110
Application date： Feb. 27, 2015
Publication date： Sep. 05, 2016
Summary：
【課題】銅スラグに新たな用途を与える銅スラグの処理方法を提供する。【解決手段】銅精鉱1を、融剤2及び酸素富化空気3と共に溶鉱炉、反射炉、電気炉、自熔炉からなる群から選択される1種の炉により処理して銅精鉱1よりも銅含有量が富化されたマット5を製造する溶錬工程4で、亜硫酸ガス6と共に得られる銅スラグ7の処理方法であって、銅スラグ7を塩化物イオン水溶液17及び硫酸13で処理して塩化鉄(II)19及びシリカゲル18を生成させることを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
銅精鉱を、融剤及び酸素富化空気と共に溶鉱炉、反射炉、電気炉、自熔炉からなる群から選択される1種の炉により処理して該銅精鉱よりも銅含有量が富化されたマットを製造する溶錬工程で、亜硫酸ガスと共に得られる銅スラグの処理方法であって、 該銅スラグを塩化物イオンを含む水溶液及び硫酸で処理して塩化鉄(II)及びシリカゲルを生成させることを特徴とする銅スラグの処理方法。
IPC (10)：
C04B 5/00 ,  C22B 9/10 ,  C22B 15/00 ,  C22B 15/02 ,  C22B 15/04 ,  C02F 1/62 ,  B01D 21/01 ,  C02F 1/52 ,  C01G 49/10 ,  C01B 33/152
FI (10)：
C04B5/00 C ,  C22B9/10 101 ,  C22B15/00 102 ,  C22B15/02 ,  C22B15/04 ,  C02F1/62 Z ,  B01D21/01 102 ,  C02F1/52 K ,  C01G49/10 ,  C01B33/152 Z
F-Term (39)：
4D015BA03 ,  4D015BA19 ,  4D015BB05 ,  4D015CA17 ,  4D015DA13 ,  4D015DC02 ,  4D015EA32 ,  4D038AA08 ,  4D038AB70 ,  4D038AB82 ,  4G048AA06 ,  4G048AB02 ,  4G048AB08 ,  4G048AC08 ,  4G048AE02 ,  4G072AA28 ,  4G072CC10 ,  4G072GG03 ,  4G072HH24 ,  4G072HH40 ,  4G072JJ15 ,  4G072JJ28 ,  4G072KK07 ,  4G072SS02 ,  4G072SS14 ,  4G072UU30 ,  4G112JD02 ,  4G112JE02 ,  4K001AA09 ,  4K001BA03 ,  4K001BA06 ,  4K001CA02 ,  4K001DA03 ,  4K001GA02 ,  4K001GA03 ,  4K001GA04 ,  4K001GA13 ,  4K001JA01 ,  4K001KA13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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