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J-GLOBAL ID：201603011838731581

ベータ型ゼオライト及びその製造方法

Inventor： 板橋 慶治 ,  大久保 達也 ,  伊與木 健太
Applicant, Patent owner： ユニゼオ株式会社 ,  国立大学法人 東京大学
Agent (9)： 特許業務法人翔和国際特許事務所 ,  羽鳥 修 ,  松嶋 善之 ,  前田 秀一 ,  岩本 昭久 ,  成瀬 源一 ,  特許業務法人翔和国際特許事務所 ,  羽鳥 修 ,  松嶋 善之
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013048074
Publication number (International publication number)：2013234109
Patent number：6034224
Application date： Mar. 11, 2013
Publication date： Nov. 21, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】(i)SiO2/Al2O3比が8〜30であり、かつSiO2/ZnO比が8〜1000であり、 (ii)ミクロ孔表面積が300〜800m2/gであり、 (iii)ミクロ孔容積が0.1〜0.3cm3/gであり、 (iv)合成したままの状態で直径が2〜6nmであり、その容積が0.001〜0.3cm3/gであるメソ孔を有する、ことを特徴とするベータ型ゼオライト。

IPC (1)：

C01B 39/46 ( 200 6.01)

FI (1)：

C01B 39/46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• モレキュラーシーブCIT-6
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-556993   Applicant：カリフォルニアインスティチュートオブテクノロジー
• 階層的多孔性を有する無定形ケイ素含有材料
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2010-523553   Applicant：イエフペ

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ゼオライト合成における最近の進歩 有機構造規定剤を用いない工業的価値の高いゼオライトの合成