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J-GLOBAL ID：201603012637610413

ビーム輸送系及び粒子線治療装置

Inventor： 花川 和之 ,  菅原 賢悟 ,  小田原 周平
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (4)： 大岩 増雄 ,  竹中 岑生 ,  村上 啓吾 ,  吉澤 憲治
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2015526094
Patent number：6009670
Application date： Jul. 11, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】 加速器から出射された荷電粒子ビームを照射位置へ輸送するビーム輸送系であって、 前記荷電粒子ビームを偏向する、少なくとも1つの偏向電磁石と、 前記荷電粒子ビームを収束または発散させる、少なくとも2つの四極電磁石と、 前記荷電粒子ビームのプロファイルデータを検出する、少なくとも1つのビームプロファイルモニタと、 前記プロファイルデータに基づいて、前記ビームプロファイルモニタにおける、ビーム位置の時間変動量またはビーム径であるビーム時間変動関連量を計算するビーム解析装置と、 前記ビーム輸送系の光学パラメータを計算する光学パラメータ計算装置と、 前記光学パラメータ計算装置により計算された前記光学パラメータに基づいて、前記偏向電磁石及び前記四極電磁石の励磁電流を設定する電磁石電源と、を備え、 前記光学パラメータ計算装置は、 前記ビーム時間変動関連量に基づいて、前記加速器のビーム軌道上に設定された前記ビーム輸送系の設計始点における前記荷電粒子ビームの運動量分散関数である始点運動量分散関数を計算し、 前記始点運動量分散関数と、前記プロファイルデータを検出した際の前記照射位置における当初条件とを初期条件とした前記光学パラメータを計算することを特徴とするビーム輸送系。

IPC (2)：

H05H 13/04 ( 200 6.01) ,  A61N 5/10 ( 200 6.01)

FI (4)：

H05H 13/04 M ,  A61N 5/10 H ,  H05H 13/04 D ,  H05H 13/04 G

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 粒子線治療システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-166023   Applicant：株式会社日立製作所
• 粒子線回転照射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2012-284121   Applicant：三菱電機株式会社
• 特開昭54-152386