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J-GLOBAL ID：201603014077982509

表面修飾基材の製造方法、接合体の製造方法、新規ヒドロシラン化合物および表面修飾基材

Inventor： 中西 和樹 ,  モイトラ ニルマリヤ ,  金森 主祥 ,  嶋田 豊司
Applicant, Patent owner： 国立大学法人京都大学
Agent (1)： 鎌田 耕一
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2015535915
Patent number：5924633
Application date： Mar. 09, 2015
Claim (excerpt)：

【請求項1】 極性基が表面に存在する基材と、分子構造Aのケイ素原子に水素原子が結合したSi-H基を有するヒドロシラン化合物と、をボラン触媒の存在下で接触させ、前記基材と前記化合物との間で脱水素縮合反応を進行させることで、前記分子構造Aにより表面が修飾された前記基材を形成する工程を含む、表面修飾基材の製造方法。

IPC (11)：

C09K 3/00 ( 200 6.01) ,  C07F 7/08 ( 200 6.01) ,  C07F 7/10 ( 200 6.01) ,  C07F 9/40 ( 200 6.01) ,  C07F 19/00 ( 200 6.01) ,  C07F 9/28 ( 200 6.01) ,  B01J 31/02 ( 200 6.01) ,  C07F 7/12 ( 200 6.01) ,  C07F 17/02 ( 200 6.01) ,  C07F 7/02 ( 200 6.01) ,  C07F 15/02 ( 200 6.01)

FI (19)：

C09K 3/00 R ,  C07F 7/08 CSP X ,  C07F 7/08 C ,  C07F 7/10 N ,  C07F 7/10 G ,  C07F 7/10 T ,  C07F 7/08 J ,  C07F 9/40 Z ,  C07F 7/08 F ,  C07F 7/08 H ,  C07F 19/00 ,  C07F 7/08 S ,  C07F 9/28 ,  B01J 31/02 Z ,  C07F 7/12 R ,  C07F 7/10 Q ,  C07F 17/02 ,  C07F 7/02 C ,  C07F 15/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 硬化性ポリシロキサン組成物、並びに、それを用いたポリシロキサン硬化物、光学部材、航空宇宙産業用部材、半導体発光装置、照明装置、及び画像表示装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-079948   Applicant：三菱化学株式会社
• 特開平4-214880
  
• 正帯電性トナー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-301556   Applicant：キヤノン株式会社
• 変性メソポーラス酸化物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-028753   Applicant：旭化成ケミカルズ株式会社
• シリコーン被覆金属酸化物超微粒子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-326647   Applicant：株式会社カネカ
• 表面改質された無機化合物微粒子及びその分散体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-263183   Applicant：旭化成株式会社