Pat
J-GLOBAL ID:201603015168676318
水素製造システム
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
平川 明
, 石丸 竜平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2015067540
Publication number (International publication number):2016185895
Application date: Mar. 27, 2015
Publication date: Oct. 27, 2016
Summary:
【課題】有機ハイドライドの脱水素反応物から水素分子を効率良く分離することができる中空糸炭素膜を備える水素製造システムを提供することを目的とする。【解決手段】有機ハイドライドを水素分子と脱水素化物とに分解する脱水素触媒を有する脱水素反応器と、有機高分子化合物を中空糸状に成形した前駆体を準備する準備工程、酸素ガスを含む雰囲気下で前記前駆体を150°C〜400°Cに加熱する予備加熱工程、および前記予備加熱工程を経た前駆体を450°C〜850°Cに加熱して炭化する炭化工程を含む方法によって製造された中空糸炭素膜を有する膜分離器と、を備える水素製造システムにおいて、炭化工程が、炭素数1〜8の炭化水素ガスの存在下で加熱することを含むことにより、有機ハイドライドから水素ガスを長期間にわたって安定して製造することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
有機ハイドライドを水素分子と脱水素化物とに分解する脱水素触媒を有する脱水素反応器と、有機高分子化合物を中空糸状に成形した前駆体を準備する準備工程、酸素ガスを含む雰囲気下で前記前駆体を150°C〜400°Cに加熱する予備加熱工程、および前記予備加熱工程を経た前駆体を450°C〜850°Cに加熱して炭化する炭化工程を含む方法によって製造された中空糸炭素膜を有する膜分離器と、を備える水素製造システムであって、
前記炭化工程が、炭素数1〜8の炭化水素ガスの存在下で加熱することを含むことを特徴とする、水素製造システム。
IPC (8):
C01B 3/56
, C01B 3/26
, C01B 31/02
, B01D 63/02
, B01D 67/00
, B01D 69/08
, B01D 71/02
, B01D 71/52
FI (8):
C01B3/56 Z
, C01B3/26
, C01B31/02 101Z
, B01D63/02
, B01D67/00
, B01D69/08
, B01D71/02 500
, B01D71/52
F-Term (51):
4D006GA41
, 4D006HA01
, 4D006JA25Z
, 4D006JA53Z
, 4D006JA55Z
, 4D006JA63Z
, 4D006JA70Z
, 4D006KA67
, 4D006KE03P
, 4D006KE04P
, 4D006KE07P
, 4D006KE08P
, 4D006KE09P
, 4D006MA01
, 4D006MC05X
, 4D006MC47X
, 4D006NA05
, 4D006NA10
, 4D006NA17
, 4D006NA39
, 4D006NA51
, 4D006NA75
, 4D006PA04
, 4D006PB66
, 4D006PB68
, 4D006PB70
, 4G140DA03
, 4G140DB05
, 4G140FA02
, 4G140FB05
, 4G140FC01
, 4G140FE01
, 4G146AA01
, 4G146AB07
, 4G146AC30B
, 4G146AD32
, 4G146BA12
, 4G146BA13
, 4G146BA20
, 4G146BA38
, 4G146BA40
, 4G146BA42
, 4G146BA45
, 4G146BB06
, 4G146BB12
, 4G146BC03
, 4G146BC23
, 4G146BC32A
, 4G146BC33A
, 4G146BC33B
, 4G146BC37B
Patent cited by the Patent: