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J-GLOBAL ID：201603016971872890

高圧水素製造法および製造システム

Inventor： 川波 肇 ,  井口 昌幸 ,  姫田 雄一郎 ,  松岡 浩一 ,  眞中 雄一
Applicant, Patent owner： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014266107
Publication number (International publication number)：2016124730
Application date： Dec. 26, 2014
Publication date： Jul. 11, 2016
Summary：

【課題】ギ酸脱水素反応器から二酸化炭素と水素を含む高圧ガスを、100°C以下の温和な条件で、大幅な昇圧または減圧する工程を経ること無く、高圧状態のまま水素と二酸化炭素を分離し、精製された高圧水素を供給する手法およびシステムを提供する。【解決手段】ギ酸脱水反応器から、二酸化炭素と水素を7.3MPa以上の高圧ガスを32°C以下にし、二酸化炭素のみを液化させた液相と、水素を豊化させたガス相の二相にすることで、高圧状態のまま、より純度の高い水素含有ガスを得る技術。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

水素貯蔵剤から触媒を用いた脱水素化反応により全圧が7.3MPa以上の水素と二酸化炭素とを含む高圧混合ガスを生成させ、生成した高圧混合ガスの全圧を0.4MPa以下に下げることなく該高圧混合ガスを相分離して水素濃度の高い高圧ガスを製造する高圧水素ガス製造方法。

IPC (3)：

C01B 3/22 ,  B01J 31/22 ,  C01B 3/50

FI (3)：

C01B3/22 Z ,  B01J31/22 M ,  C01B3/50

F-Term (31)：

4G140DA01 ,  4G140DA02 ,  4G140DB05 ,  4G140DC03 ,  4G140FA02 ,  4G140FA04 ,  4G140FB04 ,  4G140FC08 ,  4G140FE01 ,  4G169AA06 ,  4G169AA15 ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BC33A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC70A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC73A ,  4G169BC74A ,  4G169BC74B ,  4G169BC75A ,  4G169BE16A ,  4G169BE16B ,  4G169BE36A ,  4G169BE36B ,  4G169CB81 ,  4G169CC31 ,  4G169DA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ギ酸からの水素生成
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2009-532941   Applicant：エコールポリテクニークフェデラルドゥローザンヌ(エーペーエフエル)
• 二酸化炭素及び水素の分離
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2011-520576   Applicant：ビーピーオルタネイティブエナジーインターナショナルリミテッド
• 二酸化炭素の水素化またはギ酸の脱水素化に用いる触媒、該触媒を用いる二酸化炭素の水素化方法、ギ酸の脱水素化方法、水素の貯蔵および製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2012-062042   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Catalysis Science & Technology, 20131023, Vol.4, P.34-37