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J-GLOBAL ID：201603019496303079
形状計測装置および形状計測方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
杉村 憲司
, 川原 敬祐
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015003568
Publication number (International publication number)：2016128786
Application date： Jan. 09, 2015
Publication date： Jul. 14, 2016
Summary：
【課題】計測対象物体の形状を高速かつ高精度、さらには広い計測範囲で計測できる装置および方法を提案する。【解決手段】複数の光源11aが格子基板11bからの距離が異なる複数の位置の各々に少なくとも1つ配置され、解析部13は、複数の位置の各々に対して予め画素毎に作成された位相値と空間座標とを関連付けるテーブルを用いて、複数の位置のうちの第1の位置に配置された光源11aを点灯して撮影された画像に対する位相解析処理によって求められた第1の位相値について、第1の位置に対応するテーブルを参照して空間座標の複数の候補値を求め、該複数の候補値の各々に対して、複数の位置のうちの第1の位置以外の第2の位置に対応するテーブルを参照して第2の位相値を求め、該第2の位相値のうち第1の位相値との差が最小となるものに対応する空間座標の候補値に基づいて計測対象物体Oの形状を求める。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
計測対象物体の形状を計測する装置であって、
前記計測対象物体に所定の形状の格子パターンを投影するための投影用光を発光する複数の光源と、前記投影用光を通過させて前記格子パターンを形成する格子基板とを有する格子パターン投影部と、
前記格子パターンが投影された前記計測対象物体を撮影する撮影部と、
撮影された前記計測対象物体の画像に対して位相解析処理を施して前記計測対象物体の形状を求める解析部と、
を備え、
前記複数の光源は、前記格子基板からの距離が異なる複数の位置の各々に少なくとも1つ配置されており、
前記解析部は、前記複数の位置の各々に対して予め画素毎に作成された位相値と空間座標とを関連付けるテーブルを用いて、前記複数の位置のうちの第1の位置に配置された光源を点灯して撮影された画像に対する前記位相解析処理によって求められた第1の位相値について、前記第1の位置に対応するテーブルを参照して空間座標の複数の候補値を求め、該複数の候補値の各々に対して、前記複数の位置のうちの前記第1の位置以外の第2の位置に対応するテーブルを参照して第2の位相値を求め、該第2の位相値のうち前記第1の位相値との差が最小となるものに対応する空間座標の候補値に基づいて前記計測対象物体の形状を求めることを特徴とする形状計測装置。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (23)：
2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065CC16
, 2F065DD06
, 2F065EE08
, 2F065FF04
, 2F065FF07
, 2F065FF08
, 2F065FF09
, 2F065FF61
, 2F065GG13
, 2F065GG14
, 2F065GG16
, 2F065GG23
, 2F065HH05
, 2F065HH06
, 2F065JJ03
, 2F065JJ08
, 2F065JJ26
, 2F065QQ16
, 2F065QQ29
, 2F065QQ31
, 2F065UU01
