光干渉断層装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：特許業務法人谷・阿部特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014142513
Publication number (International publication number)：2016017915
Application date： Jul. 10, 2014
Publication date： Feb. 01, 2016
Summary：

【課題】高速スキャンと大きいスキャン範囲とを両立させて、2次元データ、さらには、3次元データの高速での収集を可能とする光干渉断層装置を提供する。【解決手段】被検体Tに低干渉光を出力する光源1と、前記低干渉光を2つの方向に分割して参照光L1と測定光L2として出力するビームスプリッタ2と、前記被検体に対して前記測定光を平面走査して照射する平面走査手段10と、前記参照光と前記反射光とが前記ビームスプリッタで結合した光を検出する光検出手段7と、前記光検出手段で検出された光の干渉を解析して前記被検体の光断層画像を生成する信号処理装置8とを備え、前記平面走査手段は、前記測定光の光路上に設けられた少なくとも2つの電気光学結晶41,51に電圧を印加することで当該測定光を当該電圧の印加方向と同じ方向に偏向することにより前記測定光をリサジュー図形に平面走査することを特徴とする光干渉断層装置。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

被検体に低干渉光を照射して得られる反射光を用いて該被検体の光断層画像を生成する光干渉断層装置であって、低干渉光を出力する光源と、前記低干渉光を2つの方向に分割して参照光と測定光として出力するビームスプリッタと、前記被検体に対して前記測定光を平面走査して照射し、該被検体から反射された反射光を再びビームスプリッタへ入力する平面走査手段と、前記ビームスプリッタから出力された参照光を反射して再びビームスプリッタへ入力する参照光ミラーと、前記参照光と前記反射光とが前記ビームスプリッタで結合した光を検出する光検出手段と、前記光検出手段で検出された光の干渉を解析して前記被検体の光断層画像を生成する信号処理装置とを備え、前記平面走査手段は、前記測定光の光路上に設けられた少なくとも2つの電気光学結晶に電圧を印加することで当該測定光を当該電圧の印加方向と同じ方向に偏向することにより前記測定光をリサジュー図形に平面走査することを特徴とする光干渉断層装置。

IPC (4)：

G01N 21/17 , A61B 10/00 , A61B 3/10 , G02F 1/29

FI (4)：

G01N21/17 630 , A61B10/00 E , A61B3/10 R , G02F1/29

F-Term (28)：

2G059AA05 , 2G059BB12 , 2G059EE01 , 2G059EE02 , 2G059EE05 , 2G059EE09 , 2G059FF02 , 2G059GG01 , 2G059GG04 , 2G059JJ05 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ18 , 2G059JJ22 , 2G059KK04 , 2K102AA21 , 2K102BA09 , 2K102BC04 , 2K102BC05 , 2K102BD00 , 2K102BD09 , 2K102DA01 , 2K102DC07 , 2K102DD05 , 2K102EA02 , 2K102EB10 , 2K102EB11 , 2K102EB20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

光干渉断層装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-228783 Applicant：株式会社東芝, 東芝メディカルシステムズ株式会社
光走査装置および走査型観察装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2011-101964 Applicant：オリンパス株式会社
光走査装置およびそれを備えた内視鏡装置、光走査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-093728 Applicant：オリンパス株式会社

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