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J-GLOBAL ID:201603020130029460

触媒の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人青海特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014125421
Publication number (International publication number):2016002527
Application date: Jun. 18, 2014
Publication date: Jan. 12, 2016
Summary:
【課題】触媒の比表面積を増加させて、触媒の機能を向上させる。【解決手段】金属原子で構成される触媒の製造方法であって、触媒の酸化物(酸化物連続層)に還元処理を施す工程(還元処理工程S150)を含み、還元処理は、773K以上であって金属原子の融点の1/2の温度未満の予め定められた温度の環境下、または、露点温度が233K以下の環境下であって、還元剤として機能するガスの雰囲気下に触媒の酸化物を曝すことである。【選択図】図1
Claim (excerpt):
金属原子で構成される触媒の製造方法であって、 前記触媒の酸化物に還元処理を施す工程を含み、 前記還元処理は、 773K以上であって前記金属原子の融点の1/2の温度未満の予め定められた温度の環境下、または、露点温度が233K以下の環境下であって、還元剤として機能するガスの雰囲気下に前記触媒の酸化物を曝すことであることを特徴とする触媒の製造方法。
IPC (3):
B01J 37/18 ,  B01J 23/755 ,  B01J 37/12
FI (3):
B01J37/18 ,  B01J23/755 M ,  B01J37/12
F-Term (17):
4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA18 ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169CC17 ,  4G169DA06 ,  4G169FB39 ,  4G169FB44 ,  4G169FC07
Patent cited by the Patent:
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