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J-GLOBAL ID：201702215511863148   Reference number：17A0211052

Non-destructive depth analysis of the surface oxide layer on Mg₂Si with XPS and XAS

Mg₂Siの表面での酸化物層のXPSとXASによる非破壊的深さ分析

Author (5)： Esaka Fumitaka (Japan Atomic Energy Agency, 2-4 Shirakata, Tokai, Naka, Ibaraki, 319-1195, Japan) ,  Nojima Takehiro (Japan Atomic Energy Agency, 2-4 Shirakata, Tokai, Naka, Ibaraki, 319-1195, Japan) ,  Udono Haruhiko (Ibaraki University, 4-12-1 Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki, 316-8511, Japan) ,  Magara Masaaki (Japan Atomic Energy Agency, 2-4 Shirakata, Tokai, Naka, Ibaraki, 319-1195, Japan) ,  Yamamoto Hiroyuki (Japan Atomic Energy Agency, 2-4 Shirakata, Tokai, Naka, Ibaraki, 319-1195, Japan)
Material： Surface and Interface Analysis  (SIA)
Volume： 48  Issue： 7  Page： 432-435  Publication year： Jul. 2016 
JST Material Number： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： X-ray photoelectron spectroscopy ,  X-ray absorption spectroscopy ,  *silicide ,  depth analysis ,  *magnesium compound ,  *surface analysis ,  nondestructive inspection ,  magnesium oxide
Semi thesaurus term： *magnesium silicide

Author keywords (4)： XPS ,  XAS ,  silicides ,  depth analysis

JST classification (2)： Physical analysis of inorganic compounds  (CC03024P) ,  Surface structure of solids in general  (BK15010E)

Terms in the title (4)： 酸化物層 ,  XPS ,  XAS ,  深さ分析