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J-GLOBAL ID：201702215560502552   Reference number：17A0547349

Deposition of Yttria Stabilized Zirconia (YSZ) Film on ZEOCOAT Layer by Reactive Sputtering

反応性スパッタリングによるZEOCOAT層上へのイットリア安定化ジルコニアの蒸着

Author (2)： MASRURA Haque Mayeesha (Japan Adv. Inst. Sci. & Tech. (JAIST)) ,  HORITA Susumu (Japan Adv. Inst. Sci. & Tech. (JAIST))
Material： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
Volume： 64th  Page： ROMBUNNO.14a-213-3  Publication year： Mar. 01, 2017
JST Material Number： Y0054B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *reactive sputtering ,  *cycloalkene ,  *ceramics ,  *yttrium oxide ,  *zirconium oxide ,  *sputtered deposition ,  *substrate(plate) ,  X-ray diffraction ,  crystallinity ,  layer ,  metallic thin film ,  dependence
Semi thesaurus term： XRD ,  *yttria stabilized zirconia ,  *cycloolefin ,  crystallinity ,  interlayer ,  film thickness dependence ,  *organic substrate

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Crystal structure of metal oxides and chalcogenides  (BK07020Y)

Terms in the title (3)： 反応性スパッタリング ,  イットリア安定化ジルコニア ,  蒸着