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J-GLOBAL ID：201702223059178693   Reference number：17A1449902

元素ブロック材料の未来展望 金属および半導体系元素ブロックによる電子材料の創製

Author (1)： WATANABE AKIRA (東北大 多元物質科研)
Material： 化学工業  (Chemical Industry)
Volume： 68  Issue： 11  Page： 857-863  Publication year： Nov. 01, 2017 
JST Material Number： F0101A  ISSN： 0451-2014  CODEN： KAKOA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： laser beam machining ,  laser lithography ,  *electric material ,  *nano particle ,  pattern formation ,  micro structure ,  polymer thin film ,  Electronics ,  ink ,  oligomer ,  polysilsesquioxane ,  organic-inorganic polymer hybrid ,  polyethylene naphthalate ,  indium tin oxide ,  metallic thin film ,  Silver ,  micro-patterning ,  copper nanoparticle ,  nano-ink ,  *Metal Nanoparticles ,  selective laser sintering ,  polyhedral oligomeric silsesquioxane ,  sintering ,  heat treatment ,  treatment
Semi thesaurus term： laser sintering ,  元素ブロック材料 ,  direct laser lithography ,  *electronic material ,  printed electronics ,  POSS(oligomer)

JST classification (1)： Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Terms in the title (5)： 元素 ,  未来 ,  展望 ,  電子材料 ,  創製