Art

J-GLOBAL ID：201702228474601514   Reference number：17A1220531

Local surface potential on hydrogenated microcrystalline silicon films

水素化微結晶シリコン膜上の局所表面電位

Author (5)： ITOH Takashi (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  SAKAI Takashi (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  ITO Takanori (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  KURIYAMA Hirishi (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  NONOMURA Shuichi (Gifu Univ., Gifu, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 55  Issue： 1S  Page： 01AH10.1-01AH10.5  Publication year： Jan. 2016 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *silicon ,  hydrogenation ,  *surface potential ,  force microscope ,  particle size(diameter) ,  particle ,  membrane and film ,  voltage ,  vapor deposition ,  *surface structure
Semi thesaurus term： Kelvin力顕微鏡 ,  electric potential difference ,  *microcrystalline silicon ,  surface morphology

JST classification (2)： Surface structure of semiconductors  (BK15030A) ,  Electronic structure of surfaces  (BM02080J)

Reference (31)：

• B. Yan, G. Yue, L. Sivec, J. Yang, S. Guha, and C. S. Jiang, Appl. Phys. Lett. 99, 113512 (2011).
• K. Yamamoto, A. Nakajima, M. Yoshimi, T. Sawada, S. Fukuda, T. Suezaki, M. Ichikawa, Y. Koi, M. Goto, T. Meguro, T. Matsuda, M. Kondo, T. Sasaki, and Y. Tawada, Sol. Energy 77, 939 (2004).
• H. Tan, P. Babal, M. Zeman, and A. H. M. Smets, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 132, 597 (2015).
• H. Sai, K. Maejima, T. Matsui, T. Koida, M. Kondo, S. Nakano, Y. Takeuchi, H. Katayama, and I. Yoshida, Jpn. J. Appl. Phys. 54, 08KB05 (2015).
• R. Groenen, J. Loffler, P. M. Sommeling, J. L. Linden, E. A. G. Hamers, R. E. I. Schropp, and M. C. M. van de Sanden, Thin Solid Films 392, 226 (2001).

Terms in the title (4)： 水素化 ,  微結晶 ,  シリコン膜 ,  表面電位